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20251209張瑞益/台北報導

聯電 跨入12吋矽光子製程

取得imec技術授權,瞄準次世代高速互連,打造新成長曲線

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聯電取得imec iSiPP300 12吋矽光子製程技術,正式跨入12吋矽光子領域,有望在2026~2027年形成新的成長曲線。圖/本報資料照片
聯電取得imec iSiPP300矽光子技術授權重點

 聯電8日與比利時微電子研究中心(imec)簽署技術授權協議,取得iSiPP300 12吋矽光子製程技術。此一平台具備共封裝光學(Co-Packaged Optics,CPO)相容性,被視為推動次世代高速運算與資料中心升級的關鍵技術。法人指出,聯電此次正式跨入12吋矽光子領域,象徵公司在特殊製程與先進封裝生態鏈的布局更具戰略深度,有望在2026~2027年形成新的成長曲線。

 隨著AI運算量爆炸式增長,資料中心面臨頻寬與能耗壓力,傳統銅互連已無法支撐高速資料傳輸需求。矽光子技術以光取代銅進行資料傳輸,可大幅降低延遲、提升頻寬並改善能源效率,因此成為全球雲端與高效能運算(HPC)業者積極投入的下一代互連技術。市場也普遍預期,CPO與光學I/O將是未來AI伺服器架構升級的核心。

 此次授權合作讓聯電取得imec經多年驗證的12吋矽光子製程平台技術,再加上聯電自有的SOI(Silicon-On-Insulator)製程實力與過去8吋矽光子量產經驗,將推動公司直接切入光子晶片(Photonic IC, PIC)供應鏈。聯電規劃以此平台為基礎,提供資料中心光收發器等高速光互連應用所需的關鍵元件,並進一步結合先進封裝技術,布局CPO與光學I/O相關市場。

 聯電資深副總經理洪圭鈞表示,取得imec最先進的矽光子製程技術授權,這將加速聯電12吋矽光子平台的發展進程。聯電正與多家新客戶合作,預計在此平台上提供用於光收發器的光子晶片,並於2026及2027年展開風險試產。此外,結合多元的先進封裝技術,聯電在未來系統架構將朝共封裝光學與光學I/O等更高整合度的方向邁進,為資料中心內部及跨資料中心提供高頻寬、低能耗且高度可擴展的光互連應用解決方案。