美中半導體熱戰升溫,陸系業者積極發展自研AI ASIC,中芯國際目前最新N+3製程,號稱電晶體密度已能與台積電6奈米製程相當。不過,半導體業者透露,由於仍缺乏EUV設備,影響生產良率及效率,此外,HBM(高頻寬記憶體)的取得也是瓶頸。
近期台灣ASIC業者智原被點名助華為取得HBM,公司發重訊駁斥,供應鏈分析,以HBM鍵合方式,拆板後重複使用可行性低。
智原指出,針對網路社群影射公司配合客戶運作,解焊HBM出貨為不實謠言,重申公司一切營運皆配合法遵。ASIC業者透露,智原有採用矽品CoWoS-S為客戶先進封裝,然是以12奈米之製程,且封測業者在HBM鍵合製程採用標準流程,相較DDR以SMT(表面黏著技術)打件封裝有很大差異。
另外,HBM拆板之後是否還能重複使用,尤其對高速傳輸要求高的AI晶片,可行性有待商榷。不過這進一步凸顯出中國大陸無所不用其極克 復刻種瓶頸,在邏輯晶片製程及HBM取得上,是必須克服的難關;據悉,儘管陸廠長鑫存儲DDR5已成功量產,但仍缺乏HBM製造能力。
相關晶圓代工業者透露,中芯最新的N+3製程,電晶體密度宣稱與台積電6奈米相當,不過還是採用DUV設備進行多重曝光,推測良率及生產效率皆不佳、導致成本無法與美系AI晶片匹敵。
由於美國出口管制趨嚴,中國CSP業者想買也買不到,只能選擇華為自研晶片昇騰910C,而根據DeepSeek研究人員測試結果表示,推理任務中昇騰910C性能可達H100的60%;換言之能透過AI模型演算法的突破,降低對硬體算力之依賴。
外界推測,未來輝達將會與DeepSeek共同研發設計新的晶片,研發團隊可能就在中國,並與當地業者的大模型運算框架做深度融合,打造專屬中國的生態系,而原訂在台灣的輝達海外總部計畫是否生變,就有待觀察。