AMC市場規模放大 創控、濾能2026吃補

先進製程對潔淨度要求大幅拉高的背景下，半導體分子污染控制（AMC）產業迎來新一波成長動能。專攻AMC監測的創控（6909），及主打AMC濾網與設備模組的濾能（6823），分別從「監測」與「過濾」兩端切入，同步受惠晶圓廠擴產與製程升級需求。

　隨半導體產業資本支出再攀高峰，業界普遍看好，AMC將由輔助配套轉為關鍵基建，創控與濾能2026年營運可望在新產品、新客戶與擴廠潮帶動下，延續成長曲線。

　業界指出，過去AMC多聚焦廠務空氣品質管理，但在先進製程線寬再微縮後，晶圓盒（FOUP）、製程設備周邊與微環境潔淨度，對良率與製程穩定性影響顯著放大，使得AMC應用場域由「廠房層級」擴展到「設備與載具層級」，市場規模隨之放大。

此趨勢下，創控與濾能分別從「監測設備」與「過濾耗材」切入，形成產業上下游互補。創控近年積極將監測能力，自廠務環境延伸至微環境與設備，推出FOUP監測系統與氣體分析儀等新品，確保製程環境穩定，降低潛在良率風險。公司看好，2奈米與更先進製程陸續建廠，對高精度AMC監測設備需求，將不再只是選配，而是成為標準配備。

　濾能深耕AMC專用濾網，主力產品用於過濾製程環境中的有害分子污染物，確保潔淨室與設備周邊空氣品質。公司指出，儘管短期部分客戶因擴廠進度調整、資本支出遞延，導致拉貨節奏放緩，但從全年出貨量與客戶需求結構來看，AMC濾網仍屬於「隨產線開出、長期消耗」的剛性需求，只要先進製程與先進封裝持續擴產，中長期成長趨勢並未改變。