台特化、新應材 營運看俏

　半導體投資、製成升級活絡開展，伴隨原料在地化趨勢，帶動特用化學品供應商台特化（4772）與新應材（4749）營運成長。其中，新應材主力產品表面改質劑（Rinse）營收比7成，持續受惠台積電3奈米需求成長，且年底2奈米量產後，用量還會進一步提升；BARC、EBR也成功導入2奈米製程。

　新應材表示，今年光阻及光阻周邊67億美元，2030年光阻及光阻周邊96億美元。第二季業績持正面季增看法，全年營運預期半導體材料業績年成長幅度會落在20％～35％，且比較靠近35％水準。

　此外，台特化主打半導體先進製程關鍵材料矽乙烷與無水氟化氫（AHF），矽乙烷應用半導體化學氣相沈積（CVD）製程，營收比約65％～75％，在邏輯IC先進製程（14nm～3nm）中，供應量已為全球第一。AHF因先進製程對蝕刻的精準度與純度要求更高，帶動需求量大增，預期下半年開始顯著放量，成為營收成長新動能。