瑞儀光電先進技術研發中心 動土

　瑞儀光電10日於該公司原七廠基地舉行先進技術研發中心開工動土典禮，預計投入約20億資金，發展次微米製程及精密光學元件，預定將於2027年啟用。該公司董事長王昱超表示，瑞儀光電創立近30年，此刻在高雄前鎮科技園區興建先進技術研發中心，除了是一件相當有意義的事，同時也前瞻布局瑞儀未來30年發展。

開工動土典禮包括經濟部產業園區管理局（以下簡稱園管局）副局長劉繼傳、高屏分局分局長游淑惠及園區廠商代表台虹科技董事長孫達汶、全台晶像董事長曾瑞銘、工程承攬商夆典科技開發董事長郭國華等貴賓及瑞儀光電一級主管資深副總田俊得、資深副總張紋祥、資深副總陳世誠等。

瑞儀董事長王昱超指出，先進技術研發中心預計投資約20億元資金（含硬體及設備），為瑞儀中長期發展的技術開發和設備做好準備，將發展次微米製程與開發精密光學元件。

園管局副局長劉繼傳致詞指出：「非常高興受邀參加背光模組大廠瑞儀光電在高雄園區投資的先進技術研發中心動土典禮。首先，謹代表經濟部感謝王董事長在全球景氣波動下，仍積極響應投資臺灣政策。」劉繼傳說，近年來園管局積極加速老舊廠房汰舊換新，推動前瞻基礎建設，瑞儀公司釋出該公司舊廠房（B1廠房）讓公部門得以興建新穎的廠房。在全球淨零排放的趨勢下，供應鏈客戶已開始提出減碳之要求，瑞儀公司強化集團低碳轉型量能，藉由園管局節能輔導資源逐步進行設備更新，改善後整廠節能率近50％，節能效率優化成果卓著，為園區樹立典範。

瑞儀光電先進技術研發中心基地面積6,619平方公尺，規劃為地下2層、地上6層，預計2027年完工啟用。