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20240628張瑞益、張珈睿/台北—日本連線報導

全球唯一擁四大連續製程設備 EUV出貨商機 TEL成大贏家

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TEL宮城總裁神原弘光。圖/張珈睿

 國際設備大廠東京威力科創(TEL)為全球唯一擁有沉積、塗佈/顯影、蝕刻、清洗四大連續製程設備之公司,是晶圓片進入EUV曝光前重要步驟。TEL宮城總裁神原弘光指出,隨著晶片設計演進,蝕刻技術不斷朝著3D化方向演進,垂直堆疊發展、更有效利用空間,然而堆疊層數的增加,在成膜次數跟蝕刻時間、次數也會隨之增加,所需的機台數量同步成長。

 EUV大廠擁有近乎100%市占率,TEL在塗佈/顯影與之緊密配合,同樣近乎獨占;換言之,只要EUV出貨,TEL亦將同步受惠。TEL更透露,早已在台設置研發中心,近期更會擴增潔淨室規模,與最先進製程業者合作,意謂著TEL也將擁有全球最先進設備。

 TEL於東京股市掛牌,27日以3.48萬日圓收市,市值達16.41兆日圓(約新台幣3.33兆元),今年股價大漲37%。

 於台灣設置研發中心先鋒,TEL自1996年台灣設立據點之初,便將總部二樓作為研發實驗室,近期為因應台灣半導體地位提升,TEL近期擬規劃將三樓新增潔淨室,擴大規模、因應客戶先進製程腳步加快。東京威力科創為全球前五大設備業者之一,核心業務涵蓋四個連續製程。

 與合作夥伴Litho(微影)機台搭配,TEL塗佈/顯影市占率近乎100%,也因為合作夥伴、客戶都是業界最先進,強大的護城河,持續維持業界領先地位。TEL目前遍布19個國家、共計87個據點,其中,台灣員工人數僅次於日本,足見台灣半導體地位之重要性。

 進入埃米時代,晶圓代工廠更加仰賴設備精細度,TEL已經做好準備,公司進一步分析,微縮下晶圓要求越來越嚴苛,更高端的製程,更加要求平坦化。據了解TEL最新推出的Grinder產品,不只是是為了確保晶圓的平坦化,也做到部分蝕刻平坦化及表面清潔,使設備可以針對平坦度及清潔進行量測。

 日本政府與八家企業合力扶植的晶圓代工廠Rapidus作為2奈米晶圓代工,將開啟日本製造時代,Rapidus社長小池淳義指出,日本有優秀的設備和材料廠商,但缺少重要晶片供應,期許日本半導體同業齊心協力,製造出能夠為全球做出貢獻的日本晶片。

 TEL作為重要關鍵設備夥伴,將扮演關鍵要角、攜手重振日本半導體雄風。