ASML：EUV技術 陸企難追上

　在美國聯手盟友日、荷等的晶片禁令下，荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）禁止對中國大陸出口先進機台，中國被迫走上自主研發道路。機構指出，由於技術本身和生態系統的複雜性，ASML認為「在可預見的未來」，其在極紫外光（EUV）曝光機的技術領域，尚不會面臨中國設備大廠的競爭。

　綜合外媒6日報導，ASML財務長Roger Dassen日前出席由Jefferies證券主持的投資者電話會議。在中美科技戰背景下，對於ASML日後所面臨的潛在競爭問題，ASML表示，由於技術方面和生態系統的複雜性，可預見的未來裡，其在EUV技術領域，不會面臨來自中國曝光機設備公司上海微電子（SMEE）或華為的競爭。

資料顯示，ASML先進的標準型EUV曝光機擁有超過10萬個零件，涉及上游5,000多家供應商。這些零部件極為複雜，對誤差和穩定性的要求極高，並且這些零件幾乎都是定製的，90％零件採用的都是世界最先進的技術，其中85％的零部件是和供應鏈共同研發，甚至一些界面都要工程師用高精度機械進行打磨，尺寸調整次數更可能高達百萬次以上。

目前ASML仍然是全球唯一的EUV曝光機供應商，雖然老牌的曝光機廠商：日本的尼康和佳能仍在發展相關業務，但也僅止步於深紫外光微影系統（DUV）。市場後續關注，在EUV技術路線發展受到歐美限制下，中國廠商將是持續投入資源，突破現有限制進行技術跟隨；或是考慮投入資源另闢蹊徑，尋找新的技術路徑？

報導指出，近年美國不斷透過荷蘭政府施壓ASML，要求ASML禁止向中國出售最先進的EUV曝光機。而後在拜登政府推動下，荷蘭2023年收緊對中國出口限制，並從今年1月1日起限制DUV設備，由於中國正在全境興建晶圓廠，這項禁令讓中國企業自去年年中以後加緊自ASML進口曝光機。

中國海關數據顯示，從2023年7月到11月，中國曝光機進口金額激增超過4倍至37億美元。其中，去年第三季中國市場貢獻ASML機台營收的將近一半，遠高於第二季的24％和第一季的8％，去年第四季與今年第一季仍居高不下。