艾司摩爾林口廠趕進度 26日力拚環評說明會

　全球半導體極紫外光（EUV）設備龍頭大廠、艾司摩爾（ASML）擴大加碼投資台灣，原訂今年7月動工，但整個投資案時程稍受到延誤，預計在26日舉行環境影響說明書公開會議，仍力拚在客戶大量應用的2025至2026年時能順利上線。

國際半導體產業協會（SEMI）指出，半導體設備市場在2021年增長44％，銷售總額創下歷史新高，顯示全球半導體行業對增加產能的積極推動。而艾司摩爾在台投資繼擴建桃園龜山的二期廠區後，因地受限仍無法滿足未來十年成長，去年又宣布在台擴大投資，新廠將落腳林口工一市地重劃區，第一期投資案預計斥資300億元。

新北市政府預計26日舉行「艾司摩爾林口工一廠區新建工程環境影響說明書」規劃階段會議，並邀請艾司摩爾出席說明。環境影響說明書也正式曝光林口新廠規劃。環說書中寫到，新廠計畫總面積約6.68公頃，這次預計開發面積約3.38公頃，規劃地上7層作為辦公室、作業廠房、設備機房及倉儲空間等，地下2層作為停車空間使用。

　艾司摩爾作為唯一EUV設備供應商，目前包括台積電、三星、英特爾等大廠也積極導入EUV，預計客戶真正大量應用應該落在2025至2026年。知情官員表示，艾司摩爾林口新廠原訂於2023年7月動工，但受到今年終端疲弱、製造商對於擴增設備需求趨緩，因此投資案的前置作業時程比預期較慢，「動工期間有可能比7月更晚」，但仍有機會趕上客戶大量應用的爆發期。

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