科毅技術創新 攻半導體前端製程

　　科毅科技瞄準市場主流需求3～10微米（um）中高階後段封裝，包括Micro LED、PCB、MEMS及被動元件等產業需求，致力研發「無掩膜雷射直寫曝光機」，並將申請政府科專計畫，成為次世代明星商品。

　無掩膜雷射直寫曝光機（Mask less UV Laser Maskless Lithography）系統是利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光，受電子束輻照區域的光刻膠之化學性質會產生變化，形成固化或非固化區域，因而能在抗蝕劑上形成精細圖形。科毅科技表示，無掩膜雷射直寫曝光機具備能進行動態掃描，速度穩定性高，再加上位置觸發功能和低延遲，於微米製程提供智慧光刻功能，並減少光罩之使用，降低生產成本，更適用在少量多樣的產業等優勢。

　除上述研發商品外，科毅科技亦持續改進另一項明星商品：風刀式奈米級光罩除塵機（MCS），能更有效及全面性提高晶圓曝片之除塵率，已深獲多家國際知名半導體公司、晶圓代工大廠青睞。

科毅科技產品涵蓋半導體晶片前端製程七大設備，包括曝光機、蝕刻機、鍍膜設備、量測機、清洗機、離子機以及其他設備等，曝光機主要作用為將掩膜版上的晶片電路轉移到矽片，是IC製造的最高環節，科毅科技黃光設備產品主要客戶遍及國內上市櫃大廠，包括日月光、聯穎光電、友達光電、群創光電、中強光電、崇浩光電、台灣晶技、台灣光罩、台灣生捷、奇美電子／實業及中研院、工研院、台大、清華、陽明交通…等學術研究機構，市占率逐步上升。

　科毅科技另掌握世界知名品牌二手曝光機來源，因交易金額較高，已尋得實力堅強之合作夥伴協助，正積極洽詢國內外需求客戶，預期將能產生高額收益。

在疫情趨緩，國際貿易恢復正常商業活動後，科毅科技將進軍中國及東南亞市場，持續擴大市場占有率，並積極規畫朝向資本市場邁進。