限制中國科技發展 美擋ASML部分DUV設備登陸

　美國再出手限制中國的科技發展藍圖，傳美國正在說服全球主要晶片微影設備供應商荷蘭ASML，限制部分深紫外光（DUV）設備出口給中企，此舉除阻礙中國晶片加工製程升級，料將重挫電動車、手機、物聯網等新興發展產業。

　外媒引述知情人士指出，美國政府希望ASML停止將部分DUV微影設備出口給中國，美國商務部副部長格雷夫斯在5月底、6月初造訪荷蘭等國時提出該方案。知情人士表示，美國官員此次重點針對較先進的浸潤式DUV設備。

　目前ASML已無法將最高級的極紫外光（EUV）設備供應給中企，使中國晶圓加工廠商難以發展先進製程，技術無法升級。如今限制範圍可能擴大，涵蓋次一級的DUV微影設備，頗有打擊中國快速成長的汽車、通訊等新興產業意圖。DUV設備廣泛被用於加工成熟製程晶片，例如電動車、通訊、電腦、機器人等產品多使用該類晶片，這些也是當前中國發展快速、有望占領制高點的技術產業。

　中國晶圓代工龍頭中芯國際目前受美國實體清單禁運制裁，雖可以申請許可，但涉及10奈米及以下技術節點的物件被禁止供應給中芯。

　但中國其他代工大廠也加快發展腳步，在華虹半導體、積塔半導體等大廠積極採購下，在2022年首季中國罕見成為ASML系統設備最大收入來源，期間占比高達34％來自中國。可能也因此成為美國阻擋DUV設備進入中國的要因之一。

　知情人士表示，目前有實力製造浸潤式DUV設備還有日本尼康（Nikon），美國也試圖對尼康提出類似要求，聯手盟友共同防止中國晶片發展。

　值得注意的是，中國也積極發展自研微影設備，上海微電子等廠商正持續升級DUV設備的技術。