TONiC光學尺 真空環境精準應用

　許多高精密產品的製程都必須在真空環境下進行，藉由不同程度的真空技術減少氣體分子在製程中對加工品的影響，產品最後在大氣環境下使用。典型應用包括顯示面板中薄膜和基板之間的精密貼合製程、半導體製程中的薄膜濺鍍、晶圓檢測等，任何相關的零組件皆必須滿足真空環境之要求。

　韓國運動平台製造商VAD Instrument（VAD）為了滿足其精密製程設備對真空規格的嚴格要求，採用Renishaw TONiC系列超高真空（UHV）光學尺系統，藉此提升平台的整體精度和穩定性。

　在真空環境中使用的光學尺元件皆必須經過特殊設計，包括耐高溫、高潔淨度，以及減少整體氣體量釋出等，以應用在真空室需要加熱到100°C以上的環境，及避免污染物所釋出的氣體影響真空度。

　VAD主要為客戶開發客製化的精密運動平台，包括提供給需要在真空環境下作業的製程設備。目前VAD大部分平台均採用Renishaw TONiC系列光學尺，總裁Song Baek-Kyun也指出：「像顯示面板AOI檢測設備或半導體製程設備等真空應用，我們會選用更高精度的RELM系列光學尺搭配相容真空的TONiC讀頭。另外我們開發用於半導體EUV光刻機的膜板檢測設備，由於精度要求達到ppm等級，需採用高端的RLE系列雷射尺定位系統，而Renishaw是市場少數可提供穩定效能的雷射尺廠商之一。」

　TONiC是Renishaw最多樣化的光學尺型號之一，可搭配多款不同特性的尺使用，包括適合在真空環境的應用。而TONiC UHV超高真空光學尺系列，從讀頭、電纜到尺都必需經過專門設計，真空壓力高達10-10托（Torr），讀頭配置RFI屏蔽線纜，其基本工作原理、規格性能都與在大氣壓力下使用的標準TONiC型號無異。但是UHV光學尺的讀頭在設計上消除了氣密孔，並且由高潔淨的真空相容材料和粘合劑特製而成，以避免對加工產品品質造成損壞。而Renishaw真空型光學尺也獲得獨立的專業檢驗機構鑑定，包括殘留氣體分析（RGA）光譜測試，在整個生產過程中確保在清潔的條件下進行，並有專門設計的包裝運輸以避免污染。

　VAD看好未來真空應用設備的市場需求，特別是半導體和顯示面板等精密工業製程。除了積極開發更多相關的製程平台外，在品質管控方面，VAD也採用Renishaw XL-80雷射干涉儀對設備在出廠前進行精度檢測，大幅增加客戶對其設備效能的信心。」詳細瞭解TONiC光學尺系列：www.renishaw.com.tw/tonic。