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20210524文/李淑慧

大永真空 自主開發濺鍍光學製程

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●大永真空研發團隊。    圖/大永真空設備公司提供

大永真空設備近年來積極拓展學研界,不斷搜尋具共識之合作夥伴與前端發展話題性之技術,投入於許多研發題目,除了已有研發成果的ICP反應源,更包含了曲面鍍膜、電漿模擬、電漿監控等;對該公司自主開發濺鍍光學製程之特點及相關研發能量,以下為大永研發部課長詹子厚訪談記要:

問:大永自主開發的濺鍍光學製程之特點?

 答:濺鍍的分子動能較蒸鍍高,雖然多層膜間應力大,但原子間會靠得比較緊密,也就是膜質比較好。且濺鍍鍍率天生較蒸鍍穩定,在製作一些大眾的光學薄膜時,可以不用其他系統輔助,讓濺鍍設備操作上相對簡單。

大永自主開發的濺鍍光學製程「二階段式反應濺鍍法」,原理是將傳統的反應性濺鍍分成二個階段,第一階段是金屬濺鍍區,不在靶材表面通反應性氣體,單純濺鍍靶材,等薄膜轉到第二階段的反應區,才通入反應性氣體,讓上面的材料反應成我們要的光學薄膜。因此,有效降低放電頻率,提高整體膜質,有系統地改善反應性濺鍍之缺點,又同時保留濺鍍本身的優點,進而大幅提高濺鍍光學生產之價值。

問:大永在濺鍍設備製程領域蓄積之研發能量?

 答:近年來大永發現原有的主力產品市場已趨飽和必須往外拓展,因而積極地往學研界發展,過程中接觸到許多新的觀點與市場動態,進而發現光學是個非常具潛力的市場。

在目標與資源確認之後,我們就朝著二階段式反應濺鍍法去開發,而這製程最關鍵的技術在於反應源如何建立與設計。我們和學校教授、學生、員工一同從原理開始搜尋、閱讀、設計、組裝、測試,一路從無到有成功地完成有效的反應源,並且以此鍍製出讓客戶感興趣的樣品,讓兩階段式反應濺鍍法成為在台灣本土被實現的製程技術,布局學研界是非常關鍵的一環,加上謀定而後動的果斷執行力,才能讓大永在濺鍍設備製程領域發展快速。

問:對濺鍍製程應用領域之看法?

 答:不管蒸鍍或濺鍍,皆有其適合與不適合的製程領域。近年來,受惠於一個知名品牌興起:特斯拉,將自駕車的市場帶了起來,自駕車會有很多非平面的素材,如:車載鏡頭、車用面板等相關需求陸續出現,而這些零件的環境測試更加被要求,如何鍍在曲面的凹處與達到高規格的環境測試,都與分子動能有極大相關性,以濺鍍為製程較為容易。

而且,濺鍍的鍍率較蒸鍍穩定,少了許多輔助系統,可減少操作設備之人力需求,因而能夠導入自動化的設計,意味著光學領域業者有機會引入工業4.0。

另外,二階段式反應性濺鍍的設備,國外已開發出並有許多實績,然而客戶的需求其實多樣,大永公司相當願意為客戶量身打造其需求的規格,且價格合理,期能推廣濺鍍設備之使用,藉此提升台灣光學產業整體競爭力。

問:未來展望?

 答:我們希望能夠專注於電漿領域,成為國內頂尖的電漿應用公司,甚至進一步導入智慧監控,不只提供客戶完整之塗層、設備Solution,更能為客戶帶來自動化工廠建置的門票,為台灣工業4.0之進程盡一份心力。