應用材料 推出缺陷分析系統

　在全球半導體、光電產業享有高知名度的應用材料公司，在美西半導體展期間，推出最新缺陷檢測及分類技術「Applied SEMVision G6缺陷分析系統」，該系統乃結合高解析度、多維影像分析功能及革命性創新的Purity自動化缺陷分類系統高智能的機器學習演算法，可加速達成10奈米及以下的頂尖晶片生產良率，除是半導體產業首創引進缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡技術，更可將有效協助半導體產業發展。

　該企業副總裁暨製程診斷與控制事業處總經理依泰‧羅森費德表示，在面對新的10奈米設計規則及3D架構技術要求，現有的缺陷檢測及分類技術能力面臨挑戰，而應材的SEMVision G6與Purity ADC以無與倫比影像分析及更快且更準確的強大分類工具，解決半導體業缺陷檢測諸多製程控制上的問題。

　SEMVision G6系統先進的偵測組合及精密的製程，能讓微小且不易被發現的缺陷，以高品質層析成像影像呈現，高能量影像處理能以「看穿」滲透的方式，找出重要電子層的缺陷。網址：www.appliedmaterials.com。